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設備名稱 | 化學濕臺 |
用途 | 濕法 清洗 腐蝕 |
操作方式 | 手動/半自動/自動 |
適用領域 | 半導體材料、集成電路、MEMS、LED芯片、功率器件等 |
適用工藝 | 酸洗、堿洗、有機清洗、刻蝕、超聲（兆聲清洗）、QDR清洗、顯影、去膠、電鍍、旋干 |
清洗方式 | 槽式清洗 單片清洗 |
可清洗尺寸 | 2吋--12吋 |
藥液供給 | 手動/自動 |
主體材質 | PP PVC不銹鋼 |
槽體材質 | 石英、PVDF、PTFE、NPP、 不銹鋼等 |
溫控精度 | ±1℃ |
安全防護 | 自動安全門、漏液報警、漏電保護、液位保護、急停、聲光報警系統 |
模塊化設計 | 滿足客戶多種工藝及產能的定制化要求 |
可編程菜單，方便用戶操作，直觀 | |
實時流程顯示，可控性強 | |
多級密碼，方便管理，安全可靠 | |
自動保存生產數據 | |
可實現遠程控制 | |
可實現功能 | 藥液管理系統（自動供液、自動補液、循環過濾）、在線加熱、甩干、電導率檢測、恒溫系統、百級FFU、自動滅火等 |
